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产品描述
仪器简介:
应用于IC、半导体制造及科研开发等领域
覆盖生产线上所有非金属薄膜
多参数和多层膜测量
技术参数:
Nanothi 100技术规格
可测薄膜
可测膜层 Oxide、Nitride、BPSG、PR、PI、Polymer、Polysilicon、ITO等
膜层结构 Oxide/Si、PR/Si、Nitride/Si、Polysilicon/Oxide/Si 等单、多层结构
测量参数 T,N,K,R
测量范围 25nm - 20µm (Oxide/Si)
硬件规格
光谱范围 400-800nm
物镜倍率 4X 10X 40X
光斑尺寸 *小30µm
机械分辨率 X:1µm, Y:1µm, Z:0.04µm
测量指标
250Å-2000Å 2000Å-20µm
准确度 ±1% ±1%
重复性(3б) 0.75Å 0.05%
稳定性(3б) 2.4Å 0.25%
测量时间 单点 < 3sec, 5点 <30sec
主要特点:
先进的光学测量技术
高精度、高重复性测量
稳定、使用寿命长且低成本的光源
高性能PDA
自动调焦
三维全自动机械平台
贴近生产实际操作习惯的软件系统,为测量提供快捷、方便易用的操作
数据的准确测量与实时评价